第219章 第四个万分超级大奖！

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【恭喜宿主获得奖励：原子光刻机研发技术！】

哇草——

原子光刻机？？

正在开车的洛云崢蛋蛋一震！

无数复杂的光刻机技术排队灌入他的脑海。

上一次的万分超级大奖是1nm晶片研发技术，近一个半月，他一直在私下研究消化，同时让沈夜子秘密前期筹备。

如果想生產出1nm晶片，必须拥有能承载1nm生產工艺的光刻机，因为晶片在设计之后，要经过一系列复杂的生產流程，而光刻是其中最重要的环节。

光刻机对於晶片，相当於“印刷机+雕刻刀”的综合体，即把晶片设计图以纳米级精度“印刻”到硅晶圆上，它决定了电路的最小线宽与关键尺寸，是整个製造流程的核心。

目前世界上的主流光刻机，根据光源不同，分为uv（紫外光源）、duv（深紫外光源）、euv（极紫外光源）。

其中euv光刻机技术最先进，可以生產2nm晶片，荷国的阿丝麦公司是全球唯一量產euv的供应商，苔积电、三星、英特尔为主要客户。

龙国的光刻机技术相对落后，仍处在duv阶段，当然还有別的光刻模式，比如电子束光刻机，但国內最先进的光刻机只能生產7nm晶片，而且暂时未能量產。

拿华伟举例，华伟最新款旗舰手机mate xts三摺叠，晶片为麒林9020，工艺为龙芯国际7nm，该工艺採用的光刻机是荷国阿丝麦公司的浸没式duv。

问：为什么不採用更高端的euv光刻机？

答：荷国在米方的施压下实施出口管制。

因此，龙国的晶片行业一直被欧美卡著脖子，花高价都买不到高端光刻机。

系统传授洛云崢的光刻机是原子技术，原子光刻机与euv等主流光刻机区別很大。

对比来看——

精度方面：原子光刻机的解析度能突破0.3纳米，而当前最先进的euv光刻机精度只能达到2nm。

能耗方面：原子光刻机与euv光刻机相比，可將晶片製造能耗降低80%。

成本方面：原子光刻机的成本可压缩到euv光刻机的1/5，要知道高端euv光刻机的售价高达25亿/台，成本之昂贵，可见一斑。

一句话，原子光刻机吊打当今世界上最先进的euv光刻机。

別说1nm晶片了，0.3nm都可以承制。

因为技术过高，全球至今无人能研发出原子光刻机，目前处於理论试验阶段。

洛云崢如果研发出原子光刻机，生產1nm晶片那是手拿把掐，龙国在晶片和光刻机领域也將一骑绝尘，遥遥领先！

我就说嘛~

只奖励我1nm晶片研发技术，却不奖励能製造它的光刻机，这不是玩儿我嘛。

现在好了，完美解决！

光刻机的研发难度不亚於晶片，这是先有鸡还是先有蛋的问题，euv光刻技术从提出到正式投入工业化生產，研究人员花费长达30年时间，由此可见它的难度有多高。

量子技术就更复杂了……

洛云崢单单接受系统传功，就花费一个多小时，到了復交附属肿瘤医院，脑瓜子嗡嗡的。

不行！

得释放释放！

不然脑子要炸！

洛云崢见到乔芷薇，话不多说，简单推拿预个热，立马针灸教学，连续扎了她300多针，这才稍稍释放一些。

乔芷薇嚇坏了：小王八蛋真要命…姐姐差点被你扎嗝屁……

回到公司，已是夕阳西下之时。

沈夜子纳闷道：“这次授课怎么这么久呀？”

“这节课比较复杂，耗时较长。”